Stage – Caractérisation des variabilités procédés de composants Photonique créés par méthode d’Inverse Design F/H

La circulation de l’information numérique représente une difficulté importante pour les liaisons à grande distance, les datacenters, ou encore jusqu’aux interconnexion puce à puce ou intra-puces. L’utilisation de liaisons optiques permet d’y répondre avec un gain spectaculaire en bande-passante et consommation énergétique. Les circuits photoniques intégrés sur silicium (PIC) sont la technologie d’avenir critique adressant ces aspects. Leur fabrication est de plus compatible avec les procédés industriels utilisés pour la conception des transistors CMOS. Toutefois, une des différences majeures entre les PIC et les transistors tient à leurs tailles. Là où les transistors sont petits (dizaine de nanomètres) et denses, les composants photoniques sont grands (plusieurs millimètres) et isolés.

Une des méthodes explorées pour rendre les dispositifs plus compacts est celle dite de l’Inverse Design, s’appuyant sur des méthodes numériques complexes. Les dispositifs obtenus de cette façon garantissent la fonction optique, mais sont typiquement composés d’un agencement très dense de formes complexes dites « non intuitives ». De telles configurations représentent un véritable défi d’un point de vue fabrication, où s’enchaînent notamment des étapes de lithographie et de gravure. Chacune de ces étapes peut induire ses propres perturbations locales, dont l’amplitude et l’impact global sur la propagation de la lumière sont inconnus. L’objectif du stage est de quantifier pour la première fois ces différentes variabilités, et de caractériser la façon dont elles modifient la propagation lumineuse.

Dans un contexte de diversification technologique, vous intégrerez une équipe dynamique composée de 25 personnes au sein du Département Technology Enablement & Reliability. Rattaché à l’équipe RET, ce stage de 6 mois résolument orienté Recherche & Développement vous amènera à pouvoir être en charge de :

• La métrologie par microscopie électronique à balayage permettant d’imager des motifs de test dédiés,
• La caractérisation de ces motifs par métrologie computationnelle à partir d’outils à l’état de l’art,
• La quantification de la précision et de la stabilité de la définition de ces motifs par lithographie et gravure,
• L’estimation de l’impact des variations locales sur la propagation de la lumière par simulations optiques.

A propos de vous

• De formation Bac+5, vous êtes idéalement dans un cursus en Physique (semiconducteurs, optique), Traitement d’Images, Mathématiques appliqués.
• Des connaissances en langage de programmation Python seront un avantage.
• Vous faites preuve de dynamisme et de créativité, avez une forte attirance pour l’innovation et le travail collaboratif, et faites preuve d’un bon relationnel.